Nanomeetri taseme mõõtmise tehnoloogia hõlmab järgmist: nanomeetri taseme täpsuse suurus ja nihke mõõtmine ning nanomeetri taseme pinna topograafia mõõtmine. Nanomeetri mõõtmise tehnoloogial on kaks peamist arengusuunda.
Üks neist on optiline interferomeetria tehnoloogia, mis kasutab valguse häireid, et parandada mõõtmise eraldusvõimet. Mõõtmismeetodid hõlmavad järgmist: kahesageduslik laserinterferomeetria, optiline heterodüleeninterferomeetria, röntgeniinterferomeetria, F-P standardtööriista mõõtmise meetod jne, mida saab kasutada pikkuse ja nihke täpseks mõõtmiseks ning seda võib kasutada ka pinna mikrotopograafia mõõtmiseks.
Teine on skaneerimissondi mikroskoopiline mõõtetehnoloogia (STM). Selle põhiprintsiip põhineb kvantmehaanika tunneldusefektil. Selle põhimõte on kasutada väga teravat sondi (või sarnast meetodit) mõõdetud pinna skannimiseks (sond ja mõõdetud pind ei ole tegelikult kontaktis) ja pinna kolmemõõtmelist mikroskoopilist välimust mõõdetakse nanotasandi kolmemõõtmelise nihke positsioneerimise juhtimissüsteemi abil. Kasutatakse peamiselt mikroskoopilise välimuse ja pinna suuruse mõõtmiseks.
Seda põhimõtet kasutavad mõõtmismeetodid on järgmised: tunnelmikroskoobi (STM), aatomajõu mikroskoobi (AFM) jne skaneerimine.